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据报道海力士与美光将在台积电3纳米工艺上制造NVHBM基础裸片
由 WORLDTECH 译自英文。事实、数字、名称和来源均与英文原文一致。 English
据首尔经济日报报道，海力士与美光打算为其定制NVHBM内存采购台积电（TSMC）3纳米工艺生产的基础裸片。该消息经Electronics Weekly的报道传至读者，文中未引用其他媒体来源。
首尔报道的内容
首尔经济日报称，两家存储厂商计划在台积电3纳米工艺上生产其定制高带宽内存的基础裸片。NVHBM即为该定制产品，而HBM总体上是与处理器相邻堆叠的内存，以便更快地获得数据。
Electronics Weekly刊发了这一消息，但其发布的文本被截断，因此现有材料无法核实该安排的其余细节。
相关公司
台积电（TSMC）是一家半导体公司，总部位于新竹科学园区，成立于1987年。美光（Micron）总部位于博伊西，成立于1978年，其产品包括计算机内存。
待解问题
- 海力士或美光是否已确认与台积电的这一安排？
- NVHBM的3纳米基础裸片涉及何种产量或时间安排？